微波等离子增强化学气相沉积系统(MPECVD / MPCVD)
来自韩国的微波等离子增强化学气相沉积系统,以期性能卓越操作方便得到美国、韩国、日本、香港和中国大陆多家科研机构的认可。
应用:
多壁CNT(碳纳米管)、垂直生长CNT、水平生长CNT、单壁CNT、
金刚石薄膜、纳米金刚石薄膜、类金刚石薄膜(DLC)、
SiC、其他超硬薄膜。
参数:
基本真空:2×10-3Torr (纳米尺度材料可选更高)
微波源: 2.45GHz 2kW
加热温度:900℃
掺杂: MFC控制三路气源(可增加至6路气源)
关键参数:气体种类、流速、微波功率、基底位置、加热温度等
特点:
等离子体对表面没有伤害;
更高的等离子体活性;
更长的等离子体寿命;
不受电极污染;
结构紧凑,操作方便;
多种参数控制可以方便的满足沉积不同种类的材料的研究工作。