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产品列表
产品介绍


铁电压电材料分析设备
铁电压电分析仪 TF Analyzer 1000
铁电压电分析仪 TF Analyzer 2000E
铁电压电分析仪 TF Analyzer 3000
压电材料综合表征系统 aixPES
多铁材料磁电磁阻测试仪aixPES-MR
高温块体压电分析仪aixPES-600/800
低温块体压电分析仪aixPES-Cryo
电卡效应测试仪 ECM
热激发极化电流测试仪 TSDC
超薄薄膜压电双光束激光干涉仪 aixDBLI
陶瓷多层执行器测试仪 aixCMA
机电薄膜e31测试仪 aix4PB
阻变式存储器测试仪 RRAM
铁电迟豫电流测试仪 aixPES-RX
铁电自放电测试仪 aixPES-DR
铁电随机存储器测试仪 FeRAM
热释电性能测试仪 aixPYM
热电性能测试仪 COMTESSE

电子束能量分布测试制备
电子束能量分布测试仪diaBEAM

储氢材料测试制备
压力组分温度PCT测试仪

微纳米加工设备
电子束光刻 EBL
超高分辨率电子束光刻 EBL

表面沉积与制备设备
微波等离子体增强化学气相沉积 MPECVD

生化类分析设备
圆二色光谱仪 CD
动力学停留 Stopped-flow CD

 

 

超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 

超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括:
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)

技术参数:
加速电压:最高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
最小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力

 


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